清洗原理： 等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下 有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态 的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、 原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。 在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰 击被清洗产品表面．以达到清洗目的． 清洗特点： 容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清 洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被 二次污染。 GH-100J 机台整机规格 1050mm(W)×1145mm(D)×1715mm(H) 　 真空室规格 进口铝460mm(W)× 520mm(H)× 400mm(D) 　 电极板规格 进口铝500(W)× 375D)mm 　 单层有效处理区尺寸 458(W)×325(D）mm 真空电极结构 水平电极板6层, 处理5层工件 　 真空泵系统 韩国优成 　 PLC自动控制系统硬件 OMRON/SIEMENS-PLC及扩展模块(D/A转换、A/D转换、温度控制） 日 本欧姆龙/西门子 人机工控系统 触摸屏式全中文界面